真空容器ロードロック装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：村上友一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213960
公開番号（公開出願番号）：特開2001-044267
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：

【要約】【課題】ワーク形状に制限を受けることがなく、ワークのローディング方向を任意に設定することができてスペースの有効活用ができる真空ロードロック装置を提供する。【解決手段】プロセス処理をなすための真空容器のワーク出入口に設けられてなる真空ロードロック装置である。前記ワークが収容されるロードロックチャンバに設けられたワーク搭載台座をロータにより回転可能に支持し、プロセス処理部に搬送するトランスファーチャンバの取り出し方向に合わせて搭載ワークの向きを変更可能とする。ロードロックチャンバを上下に多段配置し、各ロードロックチャンバに設けられた記ワーク搭載ユニットをロータにより回転可能に支持させ、ロードロックチャンバを前記トランスファーチャンバの周囲に複数設けた。

請求項（抜粋）：

プロセス処理をなすための真空容器のワーク出入口に設けられてなる真空ロードロック装置において,前記ワークが収容されるロードロックチャンバに設けられたワーク搭載台座をロータにより回転可能に支持し、プロセス処理部に搬送するトランスファーチャンバの取り出し方向に合わせて搭載ワークの向きを変更可能としてなることを特徴とする真空容器ロードロック装置。

FI (3件)：

H01L 21/68 N , H01L 21/68 G , H01L 21/68 S

Fターム (13件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031KA11 , 5F031MA07 , 5F031MA09 , 5F031MA13 , 5F031MA16 , 5F031MA31 , 5F031NA05 , 5F031NA08 , 5F031NA09

引用特許：

出願人引用 (7件)

半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-151910 出願人：国際電気株式会社
デュアル・ブレード・ロボット
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-315474 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-061253 出願人：東京エレクトロン山梨株式会社

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審査官引用 (5件)

半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-151910 出願人：国際電気株式会社
デュアル・ブレード・ロボット
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-315474 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-061253 出願人：東京エレクトロン山梨株式会社

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