特許
J-GLOBAL ID：200903044531531720

照明プロファイルを決定する方法及びデバイス製造方法

発明者：
ヨゼフ マリア フィンデルス

ヨゼフ マリア フィンデルス について

, 
アルマンド ユージン アルベルト コーレン

アルマンド ユージン アルベルト コーレン について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (7件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史 ,  浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-237310
公開番号（公開出願番号）：特開2007-081393
出願日： 2006年09月01日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：
【課題】同じパターンから一貫した結果をプリントするために使用できるように2つの異なる装置を合致させる迅速且つ効果的な方法を提供すること。【解決手段】目標リソグラフィ装置の出力に合致するようにリソグラフィ装置において使用可能な照明プロファイルが、基準プロファイルを使用して少なくとも複数のピッチ値でリソグラフィ投影装置に関する基準CD対ピッチ関数を得る段階と、少なくとも複数のピッチ値で目標CD対ピッチ関数を得る段階と、所与のパターンについて、リソグラフィ投影装置に関するCD感度マップを生成する段階と、基準CD対ピッチ関数、目標CD対ピッチ関数、及びCD感度マップから、所与のパターンを露光するためにリソグラフィ装置において使用すべき適切な照明プロファイルを計算する段階とによって得られる。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置を使用するデバイス製造方法において使用すべき照明プロファイルを決定する方法であって、 基準照明プロファイルを使用して、少なくとも複数のピッチ値で、前記リソグラフィ投影装置に関する基準CD対ピッチ関数を得る段階と、 少なくとも前記複数のピッチ値で、目標CD対ピッチ関数を得る段階と、 所与のパターンについて、前記リソグラフィ投影装置に関するCD感度マップを生成する段階と、 前記基準CD対ピッチ関数、前記目標CD対ピッチ関数、及び前記CD感度マップから、前記所与のパターンを露光するために前記リソグラフィ装置において使用すべき適切な照明プロファイルを計算する段階とを含む方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 516C ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (4件)：
5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB05 ,  5F046DA01
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM