基板を露光する方法およびリソグラフィ投影装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-261770
公開番号（公開出願番号）：特開2005-086212
出願日： 2004年09月09日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：

【課題】基板上のレジスト層をマスクの模様の像に露光する方法、およびリソグラフィ投影装置を提供する。【解決手段】露光開始後および露光終了前に、露光中に基板ホルダ(WT)の位置を変化させることにより、レジスト層の像に制御装置(100)で制御された量のコントラスト損を導入する。コントラスト損は、リソグラフィ投影装置の解像度のピッチ依存性に影響を及ぼし、その制御を使用して、異なるリソグラフィ投影装置間で解像度のピッチ依存性を整合させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも部分的に放射線感光層で覆われた基板を露光する方法で、リソグラフィ投影装置が、 - 放射線の投影ビームを提供する照明システムと、 - パターン付与手段を支持する支持構造とを有し、パターン付与手段は、投影ビームの断面にパターンを与える働きをし、さらに、 - 基板を保持する基板テーブルと、 - パターンの像を基板の目標部分に投影する投影システムとを有し、方法が前記放射線感光層に前記像を露光するステップを有し、露光するステップが、露光の開始後および露光の終了前に、等稠密バイアス特性を改造するために目標部分で前記像のコントラスト損を誘発することを特徴とする方法。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (2件)：

H01L21/30 514C , H01L21/30 516A

Fターム (3件)：

5F046BA04 , 5F046CC05 , 5F046DA12

引用特許：

審査官引用 (10件)

露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-110563 出願人：株式会社ニコン
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-008531 出願人：NECエレクトロニクス株式会社
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-245486 出願人：日本電気株式会社

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