特許
J-GLOBAL ID：200903048427352216

露光装置の調整方法、パターン形成方法、および露光装置

発明者：
旭 憲一

旭 憲一 について

, 
西野 勝裕

西野 勝裕 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 福井 豊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-042275
公開番号（公開出願番号）：特開2006-229042
出願日： 2005年02月18日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：
【課題】 露光装置間の光近接効果の差異を低減し、安定したパターン形成を行うことができる、露光装置の調整方法、パターン形成方法、および露光装置を提供する。【解決手段】 OPEルールの作成に使用した基準装置である露光装置Aにおいて、光近接効果による形状変形が生じるピッチP2のL/Sパターンを形成する。次に、露光装置Bにおいて、同一のマスクを用いて同一のL/Sパターンを形成するとともに、当該L/Sパターンのライン幅PBと、露光装置Aで形成したL/Sパターンライン幅PAとの間の寸法差が最小になる条件に、露光装置Bのコヒーレンスファクタを調整する。このとき、リレーレンズ11を光軸に沿って平行に移動させる。あるいは、照明絞りアパーチャ20の開口径を変更することで、コヒーレンスファクタの調整を行う。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
複数台の露光装置間に適用される露光装置の調整方法であって、 第1の露光装置において、転写パターンに光近接効果による形状変形が生じる第1のマスクを用いて、被転写体に第1のパターンを形成するステップと、 第2の露光装置において、前記第1のマスクを用いて、被転写体に第2のパターンを形成するステップと、 前記第1のパターンの寸法と前記第2のパターンの寸法との間の寸法差を求めるステップと、 当該寸法差が最小になる条件に、前記第2の露光装置のコヒーレンスファクタを調整するステップと、 を有することを特徴とする露光装置の調整方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (2件)：
H01L21/30 516Z ,  G03F7/20 521
Fターム (5件)：
5F046AA25 ,  5F046CB05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • パターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-269674   出願人：松下電器産業株式会社
審査官引用 (6件)
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