基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-256402
公開番号（公開出願番号）：特開2004-095926
出願日： 2002年09月02日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】コスト及び性能の面で優れ、小型化に有利な基板処理装置を提供する。【解決手段】この基板処理装置では、基板Wをy方向に対して傾斜させた状態で搬送しつつ基板Wを洗浄する。所定の搬送区間F内に位置するすべての吐出部35,36が、搬送方向Aに対してエア流形成部33,34の傾斜方向と略同一の傾斜角度α2で傾斜している。また、吐出部35,36が搬送方向Aに対して傾斜配置された状態で、z方向に対して傾斜配置されることにより、吐出部35,36からの純水の吐出方向が、上方から見て基板Wの搬送方向A上流側及び傾斜方向の下側に向けて搬送方向Aと斜めに交わるように、かつ、y方向から見てz方向に対して傾斜するように設定され、これによって、基板W上において、基板Wの搬送方向A下流側端部における傾斜方向の上側から搬送方向A上流側端部における傾斜方向の下側に向けて斜め方向に流れる水流が形成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板を搬送しつつ処理を行う基板処理装置であって、水平面に対して基板を傾斜させた状態で搬送する搬送機構と、上方から見て基板の搬送方向に対して傾斜する方向に延設され、基板の搬送経路を斜めに横断する略カーテン状の気流を形成する気流形成部と、前記気流形成部の前記搬送方向上流側に設けられる少なくとも1個の吐出部と、を備え、前記吐出部は、上方から見て前記搬送方向に対して前記気流形成部と略同一の傾斜角度で傾斜する傾斜方向に沿って配列される複数のノズル部を有し、その各ノズル部が前記搬送機構により搬送される基板に対して所定の処理液を吐出することを特徴とする基板処理装置。

IPC (8件)：

H01L21/304 , B05B13/02 , B05B15/04 , B05B15/12 , G03F7/30 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/68

FI (8件)：

H01L21/304 643B , B05B13/02 , B05B15/04 104 , B05B15/12 , G03F7/30 501 , H01L21/68 A , H01L21/30 569D , H01L21/306 J

Fターム (44件)：

2H096AA25 , 2H096AA26 , 2H096AA27 , 2H096GA21 , 4D073AA05 , 4D073AA09 , 4D073BB03 , 4D073CA20 , 4D073CB02 , 4D073CB19 , 4D073CB23 , 4D073DC04 , 4D073DC22 , 4D073DD10 , 4D073DD32 , 4D073DD35 , 4F035AA01 , 4F035CA02 , 4F035CA05 , 4F035CB03 , 4F035CB13 , 4F035CB29 , 4F035CC01 , 4F035CC02 , 4F035CC04 , 4F035CD18 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031FA18 , 5F031GA53 , 5F031HA48 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031NA16 , 5F043AA01 , 5F043AA40 , 5F043EE36 , 5F046LA04 , 5F046LA11 , 5F046LA19

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-344610 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
エアナイフ乾燥方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-040189 出願人：日本電気株式会社
基板洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-095820 出願人：カシオ計算機株式会社

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