特許
J-GLOBAL ID：200903045074931480
製造を容易にする設計
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-520354
公開番号（公開出願番号）：特表2007-535014
出願日： 2004年07月16日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：
【課題】製造容易性を改善するために、既存の超小型装置設計を変更する技術を提供する。【解決手段】これらの技術により、設計者は、設計に於けるデータに関連した製造基準を受領する。次に、関連した設計データが識別されて、超小型装置設計者へ供給され、該設計者は、製造基準に基づいて設計変更を選択することが出来る。このようにして、設計者は、超小型装置の元の設計に於いて、半導体ファンドリからの製造基準を直接的に包含させることが出来る。【選択図】図5A
請求項（抜粋）：
超小型装置のための設計を設計データベース内部に受領することと、
製造基準を受領することと、
前記設計データベースの前記設計を分析して、前記製造基準と関連する設計データを識別することと、
表示されるべき前記識別設計データの少なくとも一部分を選択することと、
前記識別設計データの前記選択部分を表示することと、
変更すべき前記表示設計データの少なくとも一部分の選択対象を受領することと、
前記製造基準に基づいて前記表示設計データの前記選択部分を変更することとを含むことを特徴とする超小型装置の設計方法。
IPC (2件)：
FI (5件)：
G06F17/50 604G
, G06F17/50 658M
, G06F17/50 658J
, H01L21/82 C
, H01L21/82 T
2H095BB01
, 5B046AA08
, 5B046BA01
, 5B046BA03
, 5B046BA04
, 5B046BA08
, 5B046JA01
, 5B046KA05
, 5F064BB02
, 5F064BB12
, 5F064EE22
, 5F064EE27
, 5F064HH06
, 5F064HH08
, 5F064HH15
