特許
J-GLOBAL ID：200903045224122887

フォトレジスト用重合体混合物及びこれを含むフォトレジスト組成物

発明者：
崔 相 俊

崔 相 俊 について


出願人/特許権者：
三星電子株式会社

三星電子株式会社 について


代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-306979
公開番号（公開出願番号）：特開平11-305445
出願日： 1998年10月28日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 フォトレジスト用重合体混合物、これを含むフォトレジスト組成物及びその製造方法を提供する。【解決手段】 重合体の骨格に酸により化学反応を起こすジアルキルマロン酸エステル基が結合してなる、2つ以上のモノマーが重合した重合体と、(メタ)アクリル酸誘導体モノマーと1つ以上の他のモノマーが重合した重合体またはアルコキシスチレンモノマーと1つ以上の他のモノマーが重合した重合体の混合物である。これにより、コントラストが大きく、熱分解温度が高くて優秀なプロファイルのパターンを形成するに好適である。
請求項（抜粋）：
(a)重合体の骨格に酸により化学反応を起こす-CH(CO2 R0 )2 基(ただし、R0 は炭化水素基である。)が結合してなる、2つ以上の相異なるモノマーが重合した重合体と、(b)(メタ)アクリル酸誘導体モノマーと1つ以上の他のモノマーが重合した重合体とを含むことを特徴とする化学増幅型フォトレジスト用重合体混合物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08L 25/00 ,  C08L 33/04 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08L 25/00 ,  C08L 33/04 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (8件)
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