特許
J-GLOBAL ID：200903045454437470

ウェーハケ-ス

発明者：
遠藤 光弘

遠藤 光弘 について


出願人/特許権者：
三菱マテリアルシリコン株式会社

三菱マテリアルシリコン株式会社 について


代理人 (1件)： 安倍 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-056267
公開番号（公開出願番号）：特開平11-238789
出願日： 1998年02月20日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：
【要約】【課題】 表面抵抗の差を利用して、ケース内の微細なごみ類がウェーハ表面に付着するのを防止できるウェーハケースを提供する。【解決手段】 ウェーハカセット100の表面抵抗を静電気消散性を有する108〜1013Ωとする一方、容器本体12の表面抵抗を1015〜1018Ωとしたので、密閉されたウェーハケース10内で発生した微細なごみ類は、静電気消散性を有するウェーハカセット100に付着することなく、外側に配置された容器本体12の内面に吸い寄せられる。この結果、この微細なごみが、ウェーハ11の表面に付着してこれを汚染するおそれが低減される。
請求項（抜粋）：
半導体ウェーハが直接挿填されるウェーハカセットを、容器本体内に蓋を用いて密閉するウェーハケースにおいて、上記ウェーハカセットの表面抵抗を108〜1013Ωとする一方、上記容器本体の表面抵抗を1015〜1018Ωとしたウェーハケース。
IPC (3件)：
H01L 21/68 ,  B65D 85/00 ,  B65D 85/86
FI (3件)：
H01L 21/68 T ,  B65D 85/00 H ,  B65D 85/38 R
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (10件)
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