特許

J-GLOBAL ID：200903045777181300

蒸着用マスク

発明者： 張 来英 ,  大川 洋 ,  小林 郁夫
出願人/特許権者： 日本精機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-041499
公開番号（公開出願番号）：特開2005-105406
出願日： 2004年02月18日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】 正確な蒸着パターンを形成することができ、しかも自重によって撓みが発生しづらい構造を得ることが可能な蒸着用マスクを提供すること。【解決手段】 蒸着用マスク12は、透光性基板(被蒸着部材)10に所定の蒸着パターンを形成するための開口部12a1を有する金属製のベース板12aと、ベース板12aの開口部12a1の周縁部12a2に積層構造をなすように配設され透光性基板10への蒸着材料の付着を阻止しないように設けられる金属製の遮蔽部12bとを備えている。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

被蒸着部材に所定の蒸着パターンを形成するための開口部を有する金属製のベース板と、 前記ベース板の前記開口部の周縁部に積層構造をなすように配設され前記被蒸着部材への蒸着材料の付着を阻止しないように設けられる金属製の遮蔽部と、 を備えてなることを特徴とする蒸着用マスク。

IPC (3件)：

C23C14/04 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (10件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 電界発光表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-081760   出願人：日本精機株式会社
• 蒸着用マスクおよび選択的蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-367826   出願人：ローム株式会社

審査官引用 (5件)

• 蒸着マスクおよびその製造方法並びに有機電界発光装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-353460   出願人：東レ株式会社
• 薄膜形成用マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-033614   出願人：株式会社村田製作所
• スパッタ用治具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-040750   出願人：株式会社村田製作所
• 特開平1-142075
  
• 有機EL素子製造に用いる真空蒸着用多面付けマスク装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-142179   出願人：大日本印刷株式会社