特許
J-GLOBAL ID：200903045977676338

ゼオライト含有膜の製造方法

発明者：
濱田 吉隆

濱田 吉隆 について

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笹子 勝

笹子 勝 について

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中川 秀夫

中川 秀夫 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について

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松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (4件)： 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  河村 英文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-097495
公開番号（公開出願番号）：特開2008-258319
出願日： 2007年04月03日
公開日（公表日）： 2008年10月23日
要約：
【課題】 本発明は、ドライゲルコンバージョン法によって、膜中のゼオライト成分を増加させた、表面物性が制御可能で、かつ平滑性の高い膜が得られるゼオライト含有膜の製造方法を提供する。【解決手段】 非晶状態の酸化ケイ素部分を有する材料とゼオライト様繰り返し部分を有する材料とから、非晶状態の酸化ケイ素部分とゼオライト様繰り返し部分とを含有する前駆体膜を形成させる工程と、ゼオライト様繰り返し部分を成長させるために、該前駆体膜を水蒸気存在下に加熱処理して、ドライゲルコンバージョン法を適用する工程とを含んでなるゼオライト含有膜の製造方法であって、該非晶状態の酸化ケイ素部分を有する材料、及び/又は該ゼオライト様繰り返し部分を有する材料が、少なくとも一つの炭素原子を含有する有機基の炭素原子と結合したケイ素原子を含んでなるゼオライト含有膜の製造方法を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
非晶状態の酸化ケイ素部分を有する材料とゼオライト様繰り返し部分を有する材料とを含む膜形成用組成物を調製する工程と、 上記膜形成用組成物を基板上に塗布し、上記非晶状態の酸化ケイ素部分と上記ゼオライト様繰り返し部分とを含有する前駆体膜を形成する工程と、 上記ゼオライト様繰り返し部分を成長させるために、上記前駆体膜を水蒸気存在下に加熱処理するドライゲルコンバージョン法を適用する工程と を含んでなるゼオライト含有膜の製造方法であって、 上記非晶状態の酸化ケイ素部分を有する材料、及び/又は 上記ゼオライト様繰り返し部分を有する材料が、 少なくとも一つの炭素原子を含有する有機基の炭素原子と結合したケイ素原子を含んでなるゼオライト含有膜の製造方法。
IPC (2件)：
H01L 21/316 ,  H01L 21/768
FI (2件)：
H01L21/316 G ,  H01L21/90 P
Fターム (15件)：
5F033HH11 ,  5F033JJ11 ,  5F033KK11 ,  5F033QQ74 ,  5F033RR21 ,  5F033RR29 ,  5F033SS22 ,  5F033XX24 ,  5F033XX25 ,  5F058BC02 ,  5F058BD04 ,  5F058BF46 ,  5F058BH02 ,  5F058BH20 ,  5F058BJ02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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