特許
J-GLOBAL ID：200903046244176890

薄層の厚さの非破壊測定方法およびその装置

発明者：
ヘルムート・フィッシャー

ヘルムート・フィッシャー について


出願人/特許権者：
ヘルムート・フィッシャー・ゲーエムベーハー・ウント・コンパニ・インスティテュート・フュア・エレクトロニク・ウント・メステクニク

ヘルムート・フィッシャー・ゲーエムベーハー・ウント・コンパニ・インスティテュート・フュア・エレクトロニク・ウント・メステクニク について


代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-087159
公開番号（公開出願番号）：特開2001-289606
出願日： 2001年03月26日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：
【要約】【課題】 曲率のある物体上の薄膜の厚さをその曲率に影響されずに測定する。【解決手段】 内側コア上に第1のコイル・デバイス(14)を有するプローブ(11)であって、当該コイル・デバイスの幾何学中心(22)が少なくとも第2のコイル・デバイス(31)の幾何学中心に一致し、当該少なくとも第2のコイル・デバイス(31)が部分的に第1のコイル・デバイス(24)を取り囲むプローブ、および層厚を求めるための測定の間にコイル・デバイス(24,31)の信号が送られる評価ユニットを用いた薄層の厚さの非破壊測定方法に関連し、回路(50)が備わり、それによって、測定の間、前述の第1および少なくとも第2のコイル・デバイス(24,31)が逐次励振されることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
内側コア上に第1のコイル・デバイス(24)を有するプローブ(11)であって、該コイル・デバイスの幾何学中心(22)が少なくとも第2のコイル・デバイス(31)の幾何学中心に一致し、該少なくとも第2のコイル・デバイス(31)が部分的に前記第1のコイル・デバイス(24)を取り囲むプローブ、および層厚を求める測定の間に前記コイル・デバイス(24,31)からの信号が送られる評価ユニットを用いた薄層の厚さの非破壊測定方法において、回路(50)が備わり、それによって、測定の間、前記第1および少なくとも第2のコイル・デバイス(24,31)が逐次励振されることを特徴とする方法。
IPC (2件)：
G01B 7/06 ,  G21C 17/003
FI (2件)：
G01B 7/10 Z ,  G21C 17/00 E
引用特許：
審査官引用 (11件)
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