特許
J-GLOBAL ID：200903046388429866

基板保持装置

発明者：
内藤 勝男

内藤 勝男 について


出願人/特許権者：
日新電機株式会社

日新電機株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-201333
公開番号（公開出願番号）：特開平10-027567
出願日： 1996年07月10日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：
【要約】【課題】 双極型の静電チャックにおいてイオンビーム照射時の基板表面の電位によって吸着力にアンバランスが生じるのを防止して、基板面内の温度分布の均一化を図る。【解決手段】 双極型の静電チャック6の正電極10および負電極12に、チャック電源14aから、イオンビーム照射時の基板4表面の電位+VS をほぼ相殺する調整電圧VA を加味した電圧をそれぞれ印加する。即ち、正電極10には正電源16aからV+VA なる電圧を、負電極12には負電源18aから-V+VA なる電圧を、それぞれ印加する。この調整電圧VA の大きさは、上記電位VSにほぼ等しくする。
請求項（抜粋）：
イオンビームが照射される基板を静電気によって吸着する双極型の静電チャックと、この静電チャックの二つの電極に互いに逆極性の直流電圧を印加するチャック電源とを備える基板保持装置において、前記チャック電源から静電チャックの二つの電極に、イオンビーム照射時の基板表面の電位をほぼ相殺する電圧を加味した電圧をそれぞれ印加するようにしたことを特徴とする基板保持装置。
IPC (6件)：
H01J 37/317 ,  B25J 15/06 ,  C23C 14/50 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/68 ,  H02N 13/00
FI (6件)：
H01J 37/317 B ,  B25J 15/06 S ,  C23C 14/50 A ,  H01L 21/68 R ,  H02N 13/00 D ,  H01L 21/265 E
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • 基板保持装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-145546   出願人：日新電機株式会社
  • 特開平4-132239
  • イオン処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-016922   出願人：日新電機株式会社
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審査官引用 (3件)
  • 基板保持装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-145546   出願人：日新電機株式会社
  • 特開平4-132239
  • イオン処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-016922   出願人：日新電機株式会社

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