特許
J-GLOBAL ID：200903046388631266
モールド及びモールドの作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-096488
公開番号（公開出願番号）：特開2007-273665
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：
【課題】一度に複数のパターンを形成することのできる、低コストで高精度のモールド及びモールドの作製方法を提供する。【解決手段】基板110の表面に第一層膜120、第一層膜120の表面に第二層膜130を形成する。基板110、第一層膜120、第二層膜130は同一物質で、それぞれ異なる不純物濃度をもつ材料からなる。次に、第二層膜130の表面にレジスト層140を形成し、レジスト層140の表面に電子ビームAを照射し、露光する。次に、レジスト層140に形成されたパターン150をマスクとして第二層膜130にドライエッチング、又はウェットエッチングを施す。次にレジスト層140を剥離し、第二層膜130の表面に凹凸で構成されたパターンを形成する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
ナノインプリントに用いられるモールドであって、
基板上に2種類以上の層を積層した積層体からなり、
前記2種類以上の層は、それぞれ異なる不純物濃度を有する同一物質の材料からなることを特徴とするモールド。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, B82B 1/00
, B82B 3/00
H01L21/30 502D
, G03F7/20 521
, B82B1/00
, B82B3/00
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
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