感光性樹脂及び感光性組成物

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：栗原浩之 , 村中克年
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-355612
公開番号（公開出願番号）：特開2008-007743
出願日： 2006年12月28日
公開日（公表日）： 2008年01月17日
要約：

【課題】酸発生剤とフォトレジストの主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、良好な形状のパターンを得ることができる感光性樹脂及び感光性組成物を提供する。【解決手段】特定の構造を有するスルホニウム基を置換基として含有するビニル芳香族の繰り返し単位と、特定の構造を有する基を含有するビニル芳香族の繰り返し単位と、ヒドロキシスチレンの繰り返し単位と、必要に応じてスチレンの繰り返し単位とを有する感光性樹脂とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される繰り返し単位と、下記式(2)で表される繰返し単位及び下記式(3)で表される繰り返し単位の少なくとも一方と、下記式(4)で表される繰り返し単位と、必要に応じて下記式(5)で表される繰り返し単位とを有することを特徴とする感光性樹脂。

IPC (5件)：

C08F 8/34 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 212/14 , G03F 7/004

FI (5件)：

C08F8/34 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C08F212/14 , G03F7/004 503A

Fターム (32件)：

2H025AA01 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF15 , 2H025BG00 , 2H025FA17 , 4J100AB07P , 4J100AB07R , 4J100AB07S , 4J100BA02H , 4J100BA02Q , 4J100BA02R , 4J100BA03P , 4J100BA22H , 4J100BA22S , 4J100BA53H , 4J100BA53Q , 4J100BC43H , 4J100BC43Q , 4J100CA03 , 4J100CA06 , 4J100CA31 , 4J100DA01 , 4J100FA19 , 4J100GC35 , 4J100HA61 , 4J100HC69 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (7件)

米国特許第4491628号
高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-226735 出願人：東京応化工業株式会社
ビニル化合物およびその重合体
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-055018 出願人：三新化学工業株式会社

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