特許
J-GLOBAL ID：200903046555097498
露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-046644
公開番号（公開出願番号）：特開平9-219358
出願日： 1996年02月07日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：
【要約】【課題】 斜入射照明法を利用することにより原板上のパターンを基板上に高解像力で、しかも所定の焦点深度を有しつつ、投影露光することのできる露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 光源手段からの光束を光学系を介してオプティカルインテグレータに導光し、該オプティカルインテグレータの出射面からの光束で原板面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板上に投影露光する際、該光学系は、該オプティカルインテグレータの入射面に対し瞳関係にある位置に光学素子を有し、該光学素子により該投影光学系の瞳面上で、その中心領域で所定の値の光強度分布を持ち、該中心領域の周辺の周方向で等間隔の位置に複数の所定の値の光強度分布をもつようにしていること。
請求項（抜粋）：
光源手段からの光束を光学系を介してオプティカルインテグレータに導光し、該オプティカルインテグレータの出射面からの光束で原板面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板上に投影露光する際、該光学系は該オプティカルインテグレータの入射面に対し瞳関係にある位置に光学素子を有し、該光学素子により該投影光学系の瞳面上で、その中心領域で所定の値の光強度分布を持ち、該中心領域の周辺の周方向で等間隔の位置に複数の所定の値の光強度分布をもつようにしていることを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G02B 19/00
, G02B 27/00
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 527
, G02B 19/00
, G03F 7/20 521
, G02B 27/00 V
, H01L 21/30 515 D
