特許
J-GLOBAL ID：200903047053895702
高分子金属錯体及びガス吸着材としての利用並びにこれを用いたガス分離装置及びガス貯蔵装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
八田 幹雄
, 野上 敦
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-039860
公開番号（公開出願番号）：特開2005-232222
出願日： 2004年02月17日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：
【課題】 ガス吸着材として利用が可能な新規な高分子金属錯体を提供し、さらに、これを用いたガス分離装置及びガス貯蔵装置を提供する。【解決手段】 [XY2L2]n(ただし、式中Yは対イオン、Lは有機配位子を示す。)の構造単位を有する高分子金属錯体である。前記YとしてはBF4-イオンが、前記有機配位子Lとしては4,4’-ビピリジルが、それぞれ挙げられる。前記高分子金属錯体からなるガス吸着材は、ガス分離装置やガス貯蔵装置に適用されうる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)の単位構造を有する高分子金属錯体。
IPC (14件)：
C08G79/00
, B01D53/02
, B01J20/26
, B60K15/03
, C01B3/56
, C01B13/02
, C01B17/16
, C01B17/60
, C01B21/04
, C01B21/24
, C01B31/18
, C01B31/20
, C01C1/12
, F17C11/00
C08G79/00
, B01D53/02 Z
, B01J20/26 A
, C01B3/56 Z
, C01B13/02 A
, C01B17/16 N
, C01B17/60 Z
, C01B21/04 K
, C01B21/24 Z
, C01B31/18 B
, C01B31/20 B
, C01C1/12 Z
, F17C11/00 A
, B60K15/08
3D038CA11
, 3D038CB01
, 3D038CC18
, 3E072EA01
, 4D012BA01
, 4D012CA03
, 4D012CA05
, 4D012CA06
, 4D012CA15
, 4D012CA16
, 4D012CA20
, 4D012CD07
, 4D012CG01
, 4G042BA16
, 4G042BA41
, 4G066AA02A
, 4G066AA32A
, 4G066AB03A
, 4G066AB24A
, 4G066AC11B
, 4G066CA23
, 4G066CA24
, 4G066CA27
, 4G066CA28
, 4G066CA29
, 4G066CA35
, 4G066CA37
, 4G066CA38
, 4G066CA51
, 4G066DA01
, 4G066FA03
, 4G140FA06
, 4G140FC03
, 4G140FD05
, 4G140FD06
, 4G140FE01
, 4G146JA01
, 4G146JA02
, 4G146JB10
, 4G146JC07
, 4J030CA03
, 4J030CC02
, 4J030CC30
, 4J030CD11
, 4J030CG29
出願人引用 (1件)
審査官引用 (11件)
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