特許
J-GLOBAL ID：200903047181323720

微粒子配列体、薄膜配列体および磁気記録媒体の製造方法

発明者：
木村 香里

木村 香里 について

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櫻井 正敏

櫻井 正敏 について

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小川 智之

小川 智之 について

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高橋 研

高橋 研 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について

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国立大学法人東北大学

国立大学法人東北大学 について


代理人 (4件)： 須山 佐一 ,  川原 行雄 ,  山下 聡 ,  須山 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-255589
公開番号（公開出願番号）：特開2007-069272
出願日： 2005年09月02日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：
【課題】ブロックコポリマーを相分離させて得られる微細な相分離構造の形成、およびこの微細に相分離構造に選択的に微小粒子を吸着させて得られる自己組織化配列を用い、微粒子配列体、薄膜配列体および磁気記録媒体について高生産性の製造方法を提供する。【解決手段】基板上にブロックコポリマー層を形成し、これを相分離させることにより、微細な相分離構造を形成し、他の相と吸着特性の異なる微小領域の配列を得る。この微小領域に微粒子を選択的に吸着させ、微粒子配列体を得る。微粒子が複数個であれば、吸着微粒子をこの微小領域に二次元的に最密充填させて配列させる。また、この微粒子配列体をエッチング用マスクとして、基板上に形成した薄膜をエッチングし、薄膜配列体を得る。薄膜を磁性膜とすることにより、磁気記録媒体を得る。この方法によれば、ジブロックコポリマーの自己組織化されて配列された微小領域に微粒子を二次元的に最密充填することができ、薄膜パターンを形成するためのエッチング用マスクとして優れた性能を示す。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上にブロックコポリマーの層を形成するポリマー層形成工程と、 前記ブロックコポリマーの層を相分離させ、周囲の領域と吸着性の異なる微小領域の配列を持つ微小相分離構造を前記基板上に形成する相分離工程と、 溶媒に分散した微粒子の分散液に、前記微小分離構造の形成された前記基板を浸漬し、所定の速度で引き上げることにより、前記微小領域に選択的に1個または複数個の微粒子を吸着させて微粒子吸着領域の配列を形成する微粒子吸着工程と を備えたことを特徴とする微粒子配列体の製造方法。
IPC (2件)：
B82B 3/00 ,  G11B 5/855
FI (2件)：
B82B3/00 ,  G11B5/855
Fターム (5件)：
5D112AA05 ,  5D112AA19 ,  5D112FA04 ,  5D112GA02 ,  5D112GA20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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引用文献：
審査官引用 (3件)

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