耐熱性に優れたレジストパターンの形成方法及びそれに用いられるポジ型レジスト組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-320439
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352702
出願日： 1998年11月11日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】アルカリ可溶性ノボラック樹脂及びキノンジアジド系感放射線成分を含有するポジ型レジスト組成物から形成されるポジ型レジストパターンの耐熱性を向上させる。【解決手段】アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド系感放射線剤及び、パターニング露光の波長に感度を有しないが、その後の処理により酸又はラジカルを発生する活性剤を含有するポジ型レジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成し、そこにパターニング露光し、アルカリ現像液で現像した後、活性剤から酸又はラジカルを発生させて硬化させることにより、耐熱性に優れたレジストパターンを形成する。ここで用いるレジスト組成物は、さらに架橋剤を含有するのが有利である。上記のノボラック樹脂、感放射線剤、活性剤、及び架橋剤を含有するポジ型レジスト組成物も提供される。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド系感放射線剤及び、パターニング露光の波長に感度を有しないが、その後の処理により酸又はラジカルを発生する活性剤を含有するポジ型レジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成し、そこにパターニング露光し、アルカリ現像液で現像した後、活性剤から酸又はラジカルを発生させて硬化させることを特徴とする耐熱性に優れたレジストパターンの形成方法。

IPC (4件)：

G03F 7/40 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/022 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/40 501 , G03F 7/004 503 Z , G03F 7/022 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (6件)

感光性樹脂
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-285774 出願人：日本電気株式会社
特開平3-253858
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-167810 出願人：株式会社東芝

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