特許
J-GLOBAL ID：200903047578875818
レーザーパターニング用透明導電膜付き基板およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-274016
公開番号（公開出願番号）：特開2007-184236
出願日： 2006年10月05日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：
【課題】レーザーエッチング性の良好となるレーザーパターニング用透明導電膜付きフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、およびその製造方法を提供する。【解決手段】 ガラス基板上に形成された透明導電膜をレーザー光によりパターニングすることによって透明導電膜パターンを形成するために使用される透明導電膜付き基板であって、前記透明導電膜を形成する材料が酸化インジウム、酸化スズまたは酸化亜鉛を主成分とし、波長1064nmにおける式(1)にて求められる前記透明導電膜の吸収率が5%以上20%以下である透明導電膜付き基板。 透明導電膜の吸収率={100-(透明導電膜付きガラス基板の透過率+透明導電膜付きガラス基板の反射率)}-{100-(ガラス基板の透過率+ガラス基板の反射率)}......(1)式【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガラス基板上に形成された透明導電膜をレーザー光によりパターニングすることによって透明導電膜パターンを形成するために使用される透明導電膜付き基板であって、
前記透明導電膜を形成する材料が酸化インジウム、酸化スズまたは酸化亜鉛を主成分とし、
波長1064nmにおける式(1)にて求められる前記透明導電膜の吸収率が5%以上20%以下である透明導電膜付き基板。
透明導電膜の吸収率={100-(透明導電膜付きガラス基板の透過率+透明導電膜付きガラス基板の反射率)}-{100-(ガラス基板の透過率+ガラス基板の反射率)}
......(1)式
IPC (3件)：
H01B 5/14
, H01B 13/00
, C23C 14/08
H01B5/14 A
, H01B13/00 503B
, H01B13/00 503D
, C23C14/08 D
4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA45
, 4K029BA47
, 4K029BA49
, 4K029BC09
, 4K029CA06
, 4K029DC34
, 4K029DC39
, 4K029EA08
, 5G307FA01
, 5G307FB01
, 5G307FC03
, 5G323BA02
, 5G323BB05
, 5G323CA04
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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