特許
J-GLOBAL ID：200903047771079182

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

, 
椿 英明

椿 英明 について

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田口 紀彦

田口 紀彦 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-260432
公開番号（公開出願番号）：特開2008-083159
出願日： 2006年09月26日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、100nm以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により、特定の一般式で表される酸を発生する化合物及び(B)特定の一般式で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により、下記一般式(III)又は(IV)で表される酸を発生する化合物及び (B)下記一般式(I)で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/42
FI (5件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/10 ,  C08F20/42
Fターム (48件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AJ02S ,  4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL24P ,  4J100AL24Q ,  4J100AL31P ,  4J100AL31Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16S ,  4J100BA20Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BA40R ,  4J100BA59S ,  4J100BB18S ,  4J100BC02P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC07R ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08S ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC59Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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