特許
J-GLOBAL ID：200903047862302232
デバイス製造方法、リソグラフィシステム、リソグラフィ装置及び製造システムの設計
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-323087
公開番号（公開出願番号）：特開2009-188385
出願日： 2008年12月19日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：
【課題】結像品質性能を改良した装置製造方法及びリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するデバイス製造方法は、デバイスに関連する設計レイアウト情報を受信することと、設計レイアウト情報からパターンを決定することと、パターニングデバイスにパターンを提供することと、少なくともパターン内の第1の場所に関連する第1のフィードフォワード条件データとパターン内の第2の場所に関連する第2のフィードフォワード条件データとを含むフィードフォワード条件データを、設計レイアウト情報から決定することと、少なくとも第1及び第2のフィードフォワード条件データから転写状態を決定することと、パターニングデバイスから基板上へパターンの一部を少なくとも部分的に転写状態に基づいて転写することとを含む。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
パターニングデバイスから基板上へパターンを転写することを含むデバイス製造方法であって、
デバイスに関連する設計レイアウト情報を受信することと、
前記設計レイアウト情報からパターンを決定することと、
パターニングデバイスに前記パターンを提供することと、
前記設計レイアウト情報からフィードフォワード条件データを決定することであって、前記フィードフォワード条件データが、少なくとも前記パターン内の第1の場所に関連する第1のフィードフォワード条件データと前記パターン内の第2の場所に関連する第2のフィードフォワード条件データとを含む、該決定することと、
少なくとも前記第1及び前記第2のフィードフォワード条件データから転写状態を決定することと、
前記パターニングデバイスから前記基板上へ前記パターンの一部を前記転写状態に応じて転写することと、
を含む方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (8件)：
5F046AA25
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046DA01
, 5F046DA05
, 5F046DA13
, 5F046DA14
, 5F046FC04
