特許
J-GLOBAL ID：200903098005354876
結像性能の最適化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-112320
公開番号（公開出願番号）：特開2005-303303
出願日： 2005年04月08日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】パターニング構造を照明するための照明光学系と、照明されたパターニング構造の領域を対応するフィールド上に結像するための投影光学系とを含む投影露光システムの結像性能を最適化する。【解決手段】フィールドを、第1のフィールド寸法と、投影露光システムによって露光可能な最大フィールド内の第1の位置とを有する第1の露光フィールドに設定することと、投影光学系の光学パラメータを、第1の露光フィールド内の結像性能が第1の最適な性能となるように第1の設定に設定することと、フィールドを、第2のフィールド寸法または/および第1のフィールド寸法位置とは異なる上記最大フィールド内の第2の位置を有する第2の露光フィールドに変更することと、光学パラメータを、第2の露光フィールド内の結像性能が第2の最適な性能となるように第2の設定に変更する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
投影露光システムの結像性能を最適化する方法であって、
前記投影露光システムは、パターニング構造を照明するための光源を含む照明光学系と、前記照明されたパターニング構造の領域を基板平面内の対応するフィールド上に結像するための投影光学系とを含み、
該方法は、
前記フィールドを、第1のフィールド寸法と、前記投影露光システムによって露光可能な最大フィールド内の第1の位置とを有する第1の露光フィールドに設定することと、
前記投影光学系の光学パラメータを、前記第1の露光フィールド内の結像性能が第1の実質的に最適な性能となるように第1の設定に設定することと、
前記フィールドを、前記第1のフィールド寸法とは異なる第2のフィールド寸法または/および前記第1の位置とは異なる、前記投影露光システムによって露光可能な前記最大フィールド内の第2の位置を有する第2の露光フィールドに変更することと、
前記投影光学系の光学パラメータを、前記第2の露光フィールド内の結像性能が第2の実質的に最適な性能となるように第2の設定に変更することとを含み、
前記第2の設定における前記第2の露光フィールド内の結像性能が、前記第1の設定における前記第2の露光フィールド内の結像性能よりも優れている方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 516A
, G03F7/20 521
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB05
, 5F046CB12
, 5F046CB25
, 5F046DA01
, 5F046DA13
, 5F046DB01
, 5F046DB05
