フォトレジスト剥離剤組成物及びその使用方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：塩出真一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-179308
公開番号（公開出願番号）：特開2001-356496
出願日： 2000年06月15日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】 Alの腐蝕を阻止又は大幅に抑制し、なおかつ優れた剥離・除去性を維持する。【解決手段】一般式HO-(Cn H2nO)m -R(Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、nは2〜3の整数、mは1〜3の整数)で表わされる極性有機溶剤とヒドロキシルアミンと水とヒドロキシルアミン安定化剤とを主成分としてフォトレジスト剥離剤組成物を構成する。

請求項（抜粋）：

一般式HO-(Cn H2nO)m -R(Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、nは2〜3の整数、mは1〜3の整数)で表わされる極性有機溶剤とヒドロキシルアミンと水とヒドロキシルアミン安定化剤とを主成分とすることを特徴とするフォトレジスト剥離剤組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 , H01L 21/30 572 B

Fターム (5件)：

2H096AA25 , 2H096AA26 , 2H096AA27 , 2H096LA03 , 5F046MA02

引用特許：

審査官引用 (5件)

レジスト用剥離液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-166835 出願人：東京応化工業株式会社
レジスト剥離剤組成物及びその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-252826 出願人：ナガセ電子化学株式会社
ホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-001864 出願人：東京応化工業株式会社

全件表示

前のページに戻る