特許
J-GLOBAL ID：200903048344649799
極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-257439
公開番号（公開出願番号）：特開2008-270149
出願日： 2007年10月01日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】放電チャンネルの位置を画定可能とし、放電チャンネルにおける高温プラズマ原料の密度を適宜設定できるようにし、また、ロングパルス化を可能するとすること。【解決手段】高温プラズマ原料21に第1のエネルギービーム23を照射して気化させる。気化した原料が放電領域に到達したとき、電極11,12間にパルス電力を印加するとともに第2のエネルギービーム24を照射する。これにより、プラズマが加熱励起されてEUV放射が行われる。放射されたEUV放射はEUV集光鏡2により集光され取り出される。第1、第2のレーザビーム23,24を照射しているので、高温プラズマ原料の空間密度分布を所定の分布に設定するとともに、放電チャンネルの位置を画定することが可能となる。また、放電経路にイオン密度が極端紫外光放射条件におけるイオン密度にほぼ等しい原料ガスを供給することで、EUV放射のロングパルス化が可能となる。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
容器と、この容器内に極端紫外光を放射させるための、液体または固体の原料を供給する原料供給手段と、
第1のエネルギービームを上記原料に照射して当該原料を気化する第1のエネルギービーム照射手段と、気化された上記原料を放電により上記容器内で加熱励起し高温プラズマを発生させるための、所定距離だけ離間した一対の電極と、電極にパルス電力を供給するパルス電力供給手段と、
上記一対の電極による放電の放電領域内で生成された上記高温プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光光学手段と、上記集光される極端紫外光を取り出す極端紫外光取出部とを有する極端紫外光光源装置において、
上記極端紫外光光源装置は、更に、電力が印加された電極間に第2のエネルギービームを照射することにより、上記放電領域内で放電を始動し、かつ、放電領域の所定の位置に放電経路を画定する第2のエネルギービーム照射手段を有し、
上記第1のエネルギービーム照射手段は、上記放電領域を除く空間であって、上記気化された原料が放電領域に到達できる空間内に供給された原料に対して、第1のエネルギービームを照射する
ことを特徴とする極端紫外光光源装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05G1/00 K
, H01L21/30 531S
4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AA15
, 4C092AA17
, 4C092AB19
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BB23
, 4C092BD13
, 4C092BD18
, 5F046DA01
, 5F046GA14
, 5F046GC03
出願人引用 (8件)
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極紫外線光源
公報種別：公表公報
出願番号：特願2003-584754
出願人：サイマーインコーポレイテッド
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伸張可能な薄膜を備える汚染バリヤ
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-426987
出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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極紫外線放射又は軟X線放射を作り出すための方法及び装置
公報種別：公表公報
出願番号：特願2005-503315
出願人：イクストリーメテクノロジースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング, コミッサリアアレネルジアトミック, アイクスフゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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