特許
J-GLOBAL ID：200903048480741160

放射線硬化性組成物およびそれを用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法

発明者：
江利山 祐一

江利山 祐一 について

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宇高 友広

宇高 友広 について

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高瀬 英明

高瀬 英明 について

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玉木 研太郎

玉木 研太郎 について


出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-010707
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215792
出願日： 2002年01月18日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】優れたパターン精度を有する放射線硬化性組成物、およびこのような放射線硬化性組成物を用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路において、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層の少なくとも一つが、下記(A)〜(C)成分を含有してなる放射線硬化性組成物の硬化物である。(A)一般式(1)で表される加水分解性ゲルマン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物(R1)pGe(X)4-p (1)[一般式(1)中、R1は、炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤(C)有機溶剤
請求項（抜粋）：
下記(A)〜(C)成分を含有することを特徴とする放射線硬化性組成物。(A)一般式(1)で表される加水分解性ゲルマン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物(R1)pGe(X)4-p (1)[一般式(1)中、R1は、炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤(C)有機溶剤
IPC (4件)：
G03F 7/004 511 ,  C08G 79/00 ,  G02B 6/12 ,  G03F 7/20 501
FI (4件)：
G03F 7/004 511 ,  C08G 79/00 ,  G03F 7/20 501 ,  G02B 6/12 N
Fターム (24件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA13 ,  2H025AB14 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CC03 ,  2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047QA02 ,  2H047QA05 ,  2H097FA02 ,  2H097GA45 ,  2H097LA17 ,  4J030CA01 ,  4J030CA02 ,  4J030CB03 ,  4J030CC15 ,  4J030CC16 ,  4J030CD11 ,  4J030CE07 ,  4J030CE11 ,  4J030CG06
引用特許：
審査官引用 (6件)
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