軟磁性膜及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-001458
公開番号（公開出願番号）：特開2002-208514
出願日： 2001年01月09日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】【課題】従来、下部コア層及び上部コア層として使用されるNiFe合金膜では、飽和磁束密度Bsは1.9Tよりも小さかった。【解決手段】下部磁極層19及び/または上部磁極層21を、Feの組成比が76質量%以上で90質量%以下、あるいは平均結晶粒径が130Å以上で175Å以下で且つFeの組成比が70質量%以上で90質量%以下のNiFe合金でメッキ形成する。これにより飽和磁束密度を1.9T以上にでき、高記録密度化に優れた薄膜磁気ヘッドを製造することができる。

請求項（抜粋）：

組成式がNi1-XFeXで示され、Feの組成比Xは、76質量%以上で90質量%以下であることを特徴とする軟磁性膜。

IPC (4件)：

H01F 10/14 , C25D 7/00 , G11B 5/127 , G11B 5/31

FI (5件)：

H01F 10/14 , C25D 7/00 K , G11B 5/127 F , G11B 5/31 C , G11B 5/31 M

Fターム (18件)：

4K024AA15 , 4K024AB03 , 4K024BB14 , 4K024CA01 , 4K024CA02 , 4K024CA07 , 5D033BA03 , 5D033CA01 , 5D033DA04 , 5D033DA31 , 5D093AD05 , 5D093BB18 , 5D093JA08 , 5E049AA01 , 5E049AA07 , 5E049BA12 , 5E049CC01 , 5E049LC02

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭62-226605
薄膜磁気ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-191228 出願人：株式会社日立製作所
薄膜磁気ヘッドの製造方法、薄膜磁気ヘッド及び磁気記憶装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-217590 出願人：株式会社日立製作所

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