特許
J-GLOBAL ID:200903048978058629
プラズマ発生用電極装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
細田 益稔
, 青木 純雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-021472
公開番号(公開出願番号):特開2006-210178
出願日: 2005年01月28日
公開日(公表日): 2006年08月10日
要約:
【課題】気体からプラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する装置において、被処理物とプラズマ活性種との接触の効率を向上させ、これによって被処理物の処理効率を向上させるような構造を提供する。【解決手段】プラズマを発生させるための電極装置30において、電極装置30は、誘電体からなる基板40、この基板40内に埋設されている第一の電極8、および基板の一方の主面7aに設けられている第二の電極6Aを備えている。基板40にプラズマガスを供給する貫通孔26が形成されており、第二の電極6Aから基板40に沿って生ずる沿面放電によってプラズマを発生させる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
プラズマを発生させるための電極装置であって、
誘電体からなる基板、この基板内に埋設されている第一の電極、および前記基板の一方の主面に設けられている第二の電極を備えており、前記基板に貫通孔が形成されており、前記第二の電極から前記基板に沿って生ずる沿面放電によってプラズマを発生させる、プラズマ発生用電極装置。
IPC (4件):
H05H 1/24
, A61L 2/14
, B01J 19/08
, B65B 55/08
FI (4件):
H05H1/24
, A61L2/14
, B01J19/08 E
, B65B55/08 Z
Fターム (18件):
4C058AA12
, 4C058AA25
, 4C058BB06
, 4C058CC04
, 4C058EE23
, 4C058EE26
, 4C058KK06
, 4G075AA41
, 4G075CA47
, 4G075CA63
, 4G075EB42
, 4G075EC21
, 4G075FA01
, 4G075FA03
, 4G075FB01
, 4G075FB04
, 4G075FB06
, 4G075FC15
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)