特許
J-GLOBAL ID：200903049116509541
拡散フィルム、およびこの作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-142189
公開番号（公開出願番号）：特開2005-326458
出願日： 2004年05月12日
公開日（公表日）： 2005年11月24日
要約：
【課題】拡散フィルムへ拡散領域を露光記録する場合において、拡散領域の境界部を記録することなく複数の拡散領域を連続的に、所謂シームレスに、感光性材料上に記録することによって拡散フィルムを作製する。【解決手段】本発明の拡散フィルムの作製方法によれば、マスクパターンを感光性材料11に露光記録することにより、マスクパターンに応じて屈折率の異なる領域A、領域Bが感光性材料11に規定され、屈折率の異なる領域Aおよび領域Bの分布に応じた光拡散特性を有する拡散領域18を形成することを繰り返すことによって拡散フィルム10を作製する方法であって、マスクパターンを感光性材料11に露光記録する場合に、各拡散領域18の境界線を感光性材料11上に露光記録することなくマスクパターンを感光性材料11に露光記録する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
マスクパターンを感光性材料に露光記録することにより、前記マスクパターンに応じて屈折率の異なる部分が前記感光性材料に規定され、前記屈折率の異なる部分の分布に応じた光拡散特性を有する拡散領域を形成することを繰り返すことによって拡散フィルムを作製する方法であって、
前記マスクパターンを感光性材料に露光記録する場合に、前記各拡散領域の境界線を前記感光性材料上に露光記録することなく前記マスクパターンを感光性材料に露光記録するようにした作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B5/02 B
, G03F7/20 501
2H042BA01
, 2H042BA15
, 2H042BA20
, 2H097AA05
, 2H097AB08
, 2H097CA12
, 2H097LA17
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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