特許

J-GLOBAL ID：200903049161367863

開環メタセシス重合体水素添加物、それを含有するレジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 小林 知洋 ,  金生 剛 ,  渡辺 武 ,  須永 忠弘 ,  大川 祐一
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  三井化学株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-272193
公開番号（公開出願番号）：特開2009-096948
出願日： 2007年10月19日
公開日（公表日）： 2009年05月07日
要約：

【課題】レジストパターンの微細化に伴う解像性確保のため、耐エッチング性が改良されたレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 式[1]R1〜R4のうち少なくとも一つが、式[2]の構造単位[A]と、特定の構造単位[B]及び/又は[C]から構成され、モル比で[A]/([B]+[C])=1/99〜100/0の開環メタセシス重合体水素添加物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも下記一般式[1]

IPC (3件)：

C08G 61/08 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C08G61/08 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (26件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J032CA32 ,  4J032CA33 ,  4J032CA34 ,  4J032CA35 ,  4J032CA36 ,  4J032CA43 ,  4J032CA45 ,  4J032CB05 ,  4J032CB12 ,  4J032CD04 ,  4J032CE03 ,  4J032CF03 ,  4J032CG00 ,  4J032CG06

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平4-39665号公報
  
• 感光性樹脂組成物、感光液組成物及び感光性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-177715   出願人：三井東圧化学株式会社

審査官引用 (6件)

• 開環メタセシス共重合体水素添加物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-340020   出願人：三井化学株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-258835   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 開環メタセシス重合体水素添加物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-272071   出願人：三井化学株式会社
• フッ素含有アセタールまたはケタール構造を有する単量体、重合体、ならびに化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-051285   出願人：日本電気株式会社
• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-113351   出願人：信越化学工業株式会社
• 開環メタセシス共重合体水素添加物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-114075   出願人：三井化学株式会社