特許
J-GLOBAL ID：200903081848256280

フッ素含有アセタールまたはケタール構造を有する単量体、重合体、ならびに化学増幅型レジスト組成物

発明者：
前田 勝美

前田 勝美 について

, 
中野 嘉一郎

中野 嘉一郎 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-051285
公開番号（公開出願番号）：特開2003-252928
出願日： 2002年02月27日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：
【要約】【課題】 波長180nm以下の露光光を用いたフォトリソグラフィ用化学増幅レジストにおけるレジスト樹脂に適する、透明性に優れた重合体の提供。【解決手段】 下記一般式(1):【化1】(式中、Rは、重合活性を示す炭素-炭素二重結合を含有する原子団を表し、R1、R2の一方は、炭素数1〜20のフッ素化されたアルキル基、またはフッ素化されたアリール基であり、R3は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ置換アルキル基、フッ素化されたアルキル基、アリール基、フッ素化されたアリール基、アラルキル基、フッ素化されたアラルキル基からなる群より選択される基を表す。)で表されるフッ素含有アセタール構造またはケタール構造を有する、重合活性を示す単量体を重合してなる繰り返し単位を含む重合体。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1):【化1】(式中、Rは、重合活性を示す炭素-炭素二重結合を含有する原子団を表し、R1、R2は、独立に、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状または環状のアルキル基、フッ素化されたアルキル基、アリール基、フッ素化されたアリール基からなる群より選択される基を表し、少なくとも、R1、R2の一方は、前記フッ素化されたアルキル基、またはフッ素化されたアリール基であり、R3は、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分枝状または環状のアルキル基、アルコキシ置換アルキル基、フッ素化されたアルキル基、アリール基、フッ素化されたアリール基、アラルキル基、フッ素化されたアラルキル基からなる群より選択される基を表す。)で表されるフッ素含有アセタール構造またはケタール構造を有する、重合活性を示す炭素-炭素二重結合を含有する単量体。
IPC (8件)：
C08F 16/14 ,  C07C 69/653 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/36 ,  C08F 20/42 ,  C08F 32/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
C08F 16/14 ,  C07C 69/653 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/36 ,  C08F 20/42 ,  C08F 32/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (34件)：
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ30 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BP10 ,  4H006KE00 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08P ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA12P ,  4J100BB10P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (6件)
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