特許
J-GLOBAL ID：200903049282932517
リソグラフィ装置用のレベル・センサ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-169121
公開番号（公開出願番号）：特開2005-354073
出願日： 2005年06月09日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：
【課題】リソグラフィ装置及び方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ投射機器用のレベル・センサは、測定すべき基板上に光を当てるように構成された光源と、基板から反射した光を検出するように構成された検出器と、第1構成と第2構成のフィルタで行った測定間の差を計算するように構成されたプロセッサとを含む。このセンサは、光が第1の特性を受ける第1構成と、光が第2の特性を受ける第2構成との間で調節可能である。このセンサは、第1及び第2の特性が異なる偏光状態となるように偏光フィルタを含むことができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投射機器用のレベル・センサであって、
測定すべき基板上に光を当てるように構成された光源と、
前記基板から反射した光を検出するように構成された検出器と、
前記光が第1の特性を有するときに行った測定と、前記光が前記第1の特性とは異なる第2の特性を有するときに行った測定の差を計算するように構成されたプロセッサとを備え、
前記光が第1の特性を有する第1構成と、前記光が第2の特性を有する第2構成との間で調節可能であるレベル・センサ。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G01B11/02
, G03F7/20
H01L21/30 526B
, G01B11/02 Z
, G03F7/20 521
2F065AA00
, 2F065AA24
, 2F065AA35
, 2F065CC19
, 2F065GG23
, 2F065JJ03
, 2F065LL12
, 2F065LL22
, 2F065LL33
, 2F065LL37
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065SS09
, 5F046BA03
, 5F046CB24
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DC09
