特許
J-GLOBAL ID：200903049421438204

新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法

発明者：
川上 晃也

川上 晃也 について

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石塚 啓太

石塚 啓太 について

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松沢 賢介

松沢 賢介 について

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内海 義之

内海 義之 について

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清水 宏明

清水 宏明 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-036732
公開番号（公開出願番号）：特開2009-191054
出願日： 2008年02月18日
公開日（公表日）： 2009年08月27日
要約：
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物の前駆体として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、特定の構造式(b1-2)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1-2)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (5件)：
C07D 307/93 ,  G03F 7/039 ,  C07C 69/708 ,  G03F 7/004 ,  C07C 69/54
FI (6件)：
C07D307/93 ,  G03F7/039 601 ,  C07C69/708 Z ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  C07C69/54 B
Fターム (21件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4C037UA04 ,  4H006AA01 ,  4H006AB76 ,  4H006BT12 ,  4H006BT14
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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