ポジ型感光性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-132291
公開番号（公開出願番号）：特開平11-327145
出願日： 1998年05月14日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】深紫外線、特にArF エキシマレーザー光に対して、特に残膜率、レジストプロファイルが優れ、現像欠陥の問題を生じないとともに、半導体製造プロセス上安定性の優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】環状脂肪族炭化水素骨格構造を含み、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、分子量が1000以下のスルホンアミド構造を含む化合物、含窒素塩基性化合物及びフッソ系及び/またはシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

(A)環状脂肪族炭化水素骨格構造を含み、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)分子量が1000以下のスルホンアミド構造を含む化合物、(D)含窒素塩基性化合物、及び(E)フッソ系及び/またはシリコン系界面活性剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 504 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (5件)

レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-312671 出願人：日本ゼオン株式会社
ポジ画像形成組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-017746 出願人：富士写真フイルム株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-352621 出願人：ジェイエスアール株式会社

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