特許
J-GLOBAL ID：200903050234039450
電子レンジ及びその掃除制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
志賀 正武
, 渡邊 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-166745
公開番号（公開出願番号）：特開2004-170053
出願日： 2003年06月11日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】調理室の内面の掃除が容易に行えるようにする掃除装置を有する電子レンジ及びその電子レンジの掃除制御方法を提供する。【解決手段】電子レンジの外観をなす本体10と、前記本体10内に設けられた調理室11と、高周波を発生させて前記調理室11内に照射する高周波供給部17と、前記調理室11の換気のため、調理室の壁面に形成された通気孔21,23と、スチームを発生させるための水を収容するために前記調理室11の内部に設けられた貯水部25と、前記高周波供給部17の動作中に前記調理室11からスチームが漏洩することを制御するため、前記通気孔21を閉鎖する通気孔制御部30とを含む。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
電子レンジの外観をなす本体と、
前記本体内に設けられた調理室と、
高周波を発生させて前記調理室内に照射する高周波供給部と、
前記調理室の換気のため、調理室の壁面に形成された通気孔と、
スチームを発生させるための水を収容するために前記調理室の内部に設けられた貯水部と、
前記高周波供給部の動作中に前記調理室からスチームが漏洩することを制御するため、前記通気孔を閉鎖する通気孔制御部とを含んでなることを特徴とする電子レンジ。
IPC (1件)：
FI (4件)：
F24C7/02 350A
, F24C7/02 H
, F24C7/02 340Z
, F24C7/02 350J
3L086AA01
, 3L086BB01
, 3L086BE08
, 3L086BE20
, 3L086CA20
, 3L086DA08
出願人引用 (6件)
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高周波加熱装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-228948
出願人：松下電器産業株式会社
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加熱調理装置内室を洗浄するための装置と方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-112583
出願人：ラツィオナルアクチエンゲゼルシャフト
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加熱調理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-037799
出願人：松下電器産業株式会社
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審査官引用 (2件)
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加熱調理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-037799
出願人：松下電器産業株式会社
-
マイクロ波加熱装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-036778
出願人：三洋電機株式会社
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