X線縮小露光リソグラフ用光源装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：大川宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-292947
公開番号（公開出願番号）：特開平11-126745
出願日： 1997年10月24日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】【課題】回路幅が1μm以下のX線縮小露光リソグラフ用光源装置を提供する。【解決手段】アルミニウム若しくはアルミニウム合金またはシリコン若しくはシリコン合金をターゲット4としてパルスレーザ1を照射するレーザプラズマ軟X線発生装置と、発生した前記レーザプラズマ軟X線3のうち波長が12.4〜17nmであるレーザプラズマ軟X線を透過する波長選択フィルタ9とからなる。波長13nm付近に強いX線スペクトル強度を有するX線を得ることができ、発生した前記レーザプラズマ軟X線のうち波長が12.4〜17nmであるレーザプラズマ軟X線を透過する波長選択フィルタを透過させることにより、従来の線幅の10分の1以下の線幅のリソグラフを得ることができる。また、12.4nm以下の短い波長の二次光をカットする波長選択ができ、縮小露光における画像の解像度を向上させる。

請求項（抜粋）：

アルミニウ若しくはアルミニウム合金またはシリコン若しくはシリコン合金をターゲットとしてパルスレーザを照射するレーザプラズマ軟X線発生装置と、発生した前記レーザプラズマ軟X線のうち波長が12.4〜17nmであるレーザプラズマ軟X線を透過する波長選択フィルタを備えていることを特徴とするX線縮小露光リソグラフ用光源装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G21K 5/02

FI (3件)：

H01L 21/30 531 S , G03F 7/20 503 , G21K 5/02 X

引用特許：

審査官引用 (7件)

X線露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-019138 出願人：株式会社ニコン
露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-046698 出願人：株式会社日立製作所
X線源
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-097143 出願人：理化学研究所, 株式会社島津製作所

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