特許
J-GLOBAL ID：200903050614405468
全反射光を利用した測定装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-136589
公開番号（公開出願番号）：特開2003-329578
出願日： 2002年05月13日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：
【要約】【課題】 全反射光を利用した測定方法および装置において、受光手段への迷光の入射による全反射減衰角の測定精度の低下を抑制する。【解決手段】 並設された誘電体ブロック52の数より少ない複数の光源7、光源8および光源9を備えた光ビーム発生手段10から、互いに隣合う受光手段30にそれぞれ対応する誘電体ブロック52に対して、上記光源7、光源8および光源9のうち互いに異なる光源からの光ビームを入射させる。光ビームは入射光学系20により、各誘電体ブロック52に対して、誘電体ブロック52と薄膜層14との界面で全反射条件が得られる入射角で入射せしめられ、各界面で全反射した光ビームを複数の受光手段30で個別に受光し光ビームの強度分布を測定する。
請求項（抜粋）：
光ビームを発生する光ビーム発生手段と、前記光ビームに対して透明な誘電体ブロック、この誘電体ブロックの上面に形成された薄膜層、およびこの薄膜層の表面上に試料を保持する試料保持機構を備えてなる複数の測定ユニットと、前記光ビームを、前記各測定ユニットの誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られる入射角で入射させる入射光学系と、前記各界面で全反射した光ビームを個別に受光し、該光ビームの強度を測定する複数の受光手段を並設してなる光検出手段とを備えてなる全反射光を利用した測定装置であって、前記光ビーム発生手段が、前記誘電体ブロックの数より少ない複数の光源を備え、前記入射光学系が、互いに隣合う前記受光手段にそれぞれ対応する誘電体ブロックに対して、前記複数の光源のうち互いに異なる光源からの光ビームを入射させるものであることを特徴とする全反射光を利用した測定装置。
Fターム (16件)：
2G059AA02
, 2G059DD13
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059GG01
, 2G059GG03
, 2G059GG07
, 2G059GG10
, 2G059JJ02
, 2G059JJ11
, 2G059JJ19
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059LL04
, 2G059MM01
, 2G059PP04
