特許
J-GLOBAL ID：200903050693748235
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 田中 正
, 森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-364262
公開番号（公開出願番号）：特開2006-191031
出願日： 2005年12月19日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：
【課題】基板の厚さの変化を補償する改良された方法を提供するシステム及び方法を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、その断面にパターンを有する投影ビームを付与する個別に制御可能な要素のアレイMLAを有する。この投影システムは、レンズのアレイ中の各レンズがパターンを与えられたビームの異なる位置を伝達し、レンズのアレイの形状を変化させるように構成されたアクチュエータを含む。一例では、このアクチュエータは、圧電アクチュエータである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
放射ビームを整える照明システムと、
ビームにパターンを与える個別に制御可能な要素のアレイと、
パターンを与えられたビームを基板の目標部分上に投影する投影システムであって、
レンズのアレイ中の各レンズが前記パターンを与えられたビームの異なる部分を伝達するように、平面に配置されたレンズのアレイと、
レンズの前記アレイの全体形状を制御するアクチュエータ・システムとを備える投影システムとを備える、リソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 3/00
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, G02B3/00 A
, H01L21/30 529
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB12
, 5F046CB25
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DC10
