特許
J-GLOBAL ID:200903050699435360
X線試料検査装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-083398
公開番号(公開出願番号):特開2001-272358
出願日: 2000年03月24日
公開日(公表日): 2001年10月05日
要約:
【要約】【解決課題】実際に使用波長の近傍でのX線を使って光学素子を評価する装置として、放射光を利用したものがあるが、装置コストが高く、その大きさが桁外れに大きい。また、レーザープラズマX線源から連続スペクトルを放出させ、これを回折格子により分光して評価する装置もあるが、回折効率も低いため被測定光学素子上に照射されるX線光量が低下し、測定時間が長くなったり、S/Nの低下による精度の低下などを招いている。本発明の課題は、X線領域で使用する光学素子を安価に、高精度に、高速に、使用する波長での光学特性を測定可能にする装置を提供することである。【解決方法】光源として、プラズマより放射されるX線を用い、所望の波長のX線を得るために多層膜からなる反射鏡・フィルタを用いる。
請求項(抜粋):
パルスレーザー光を減圧された容器中の標的材料に集光することにより、該標的材料をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線(以下では、レーザープラズマX線源,LPXと呼ぶ)、あるいは放電により標的材料をプラズマ化し該プラズマより輻射されるX線を試料に照射し、X線に対する該試料の反射率あるいは透過率あるいは散乱を測定するX線試料検査装置に於いて、該X線源からラインスペクトル群を輻射させ、該ラインスペクトル群の内、1本ないし数本の線スペクトルを選択して該試料上に照射することを特徴とするX線試料検査装置。
IPC (8件):
G01N 23/20
, G02B 5/08
, G02B 5/10
, G21K 1/06
, G21K 5/08
, H01L 21/027
, H05G 2/00
, H05G 1/00
FI (11件):
G01N 23/20
, G02B 5/08 A
, G02B 5/10 A
, G21K 1/06 N
, G21K 1/06 L
, G21K 1/06 D
, G21K 5/08 X
, H01L 21/30 531 Z
, H01L 21/30 531 M
, H05G 1/00 K
, H05G 1/00 R
Fターム (41件):
2G001AA01
, 2G001AA09
, 2G001AA10
, 2G001AA20
, 2G001BA11
, 2G001BA14
, 2G001BA15
, 2G001DA09
, 2G001EA02
, 2G001EA06
, 2G001EA09
, 2G001EA20
, 2G001FA03
, 2G001FA04
, 2G001FA29
, 2G001GA03
, 2G001GA13
, 2G001JA01
, 2G001JA06
, 2G001JA08
, 2G001JA20
, 2G001KA20
, 2G001PA07
, 2G001PA12
, 2G001SA01
, 2G001SA10
, 2H042DA08
, 2H042DB02
, 2H042DC02
, 2H042DC11
, 2H042DD04
, 2H042DD06
, 2H042DD07
, 2H042DD08
, 2H042DD09
, 2H042DE09
, 4C092AA06
, 4C092BD05
, 4C092BD19
, 5F046GB01
, 5F046GD20
引用特許:
審査官引用 (8件)
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特開平4-128641
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X線分光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-260787
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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光電子分光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-068271
出願人:工業技術院長, 株式会社ニコン
-
X線マスク検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-140981
出願人:株式会社ニコン
-
特許第2664632号
-
光学素子およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-326527
出願人:株式会社日立製作所
-
多層ミラーおよびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-243835
出願人:フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ
-
軟X線反射率測定方法とそのための装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-127197
出願人:トヨタ自動車株式会社, 株式会社豊田中央研究所, 株式会社トヨタマックス
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