特許
J-GLOBAL ID：200903050763687026

基板の処理システム

発明者：
上田 一成

上田 一成 について

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林田 安

林田 安 について

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宮田 亮

宮田 亮 について

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山本 健生

山本 健生 について

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山本 雄一

山本 雄一 について

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松下 道明

松下 道明 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-172389
公開番号（公開出願番号）：特開2009-010287
出願日： 2007年06月29日
公開日（公表日）： 2009年01月15日
要約：
【課題】塗布現像処理システムにおいてウェハの処理効率を向上する。【解決手段】塗布現像処理システムの搬入出ブロックに、カセット待機ブロック6が接続される。カセット待機ブロック6には、カセット搬入出部110と、カセット待機部111と、カセット受け渡し部112と、ウェハ処理部113が設けられる。また、カセット待機ブロック6には、カセット搬入出部110、カセット待機部111及びカセット受け渡し部112間でカセットCを搬送するカセット搬送装置120と、カセット待機部111のカセットCとウェハ処理部113との間でウェハWを搬送するウェハ搬送装置121が設けられる。各カセット待機部111には、カセットCのドアオープナー115が設けられる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
基板を枚葉式で処理する処理ブロックと、前記処理ブロックに対して基板を搬入出する搬入出ブロックとを隣接して備えた基板の処理システムであって、 前記搬入出ブロックは、複数枚の基板を収容するカセットを載置するカセット載置部を有し、前記カセット載置部のカセットから前記処理ブロックに基板を搬入出可能であり、 前記搬入出ブロックに隣接してカセット待機ブロックが設けられ、 前記カセット待機ブロックには、複数のカセットを待機させるカセット待機部と、前記搬入出ブロックとの間でカセットの受け渡しを行うためのカセット受け渡し部と、カセットが前記搬入出ブロックに搬入される前に基板に対して所定の処理を行う基板処理部が設けられていることを特徴とする、基板の処理システム。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/677
FI (3件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/30 502J ,  H01L21/68 A
Fターム (29件)：
5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031EA18 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA42 ,  5F031GA44 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA07 ,  5F031MA09 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA10 ,  5F031PA02 ,  5F046JA22 ,  5F046JA24 ,  5F046LA13 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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