特許
J-GLOBAL ID:200903050791703215
薄膜形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
篠部 正治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-024692
公開番号(公開出願番号):特開2004-232067
出願日: 2003年01月31日
公開日(公表日): 2004年08月19日
要約:
【課題】フィルム基板およびその上に形成された膜に皺等のダメージを発生させることのない薄膜形成装置を提供する。【解決手段】回転駆動する送りロール4 から巻き取りロール5 に渡って連続して搬送される可撓性基板10が、送り側ターンロールを介し鉛直上方に方向転換され、送り側ターンロール18の上方に設置されたセンターロール19を介して鉛直下方に向けて方向転換され、次いで巻き取り側ターンロール30を介し巻き取り側に方向転換されるように搬送され、可撓性基板がセンターロールと送り側ターンローおよび巻き取り側ターンロール間で鉛直面内に保持されている時に、可撓性基板を内部に収める成膜室内で所定の薄膜形成が行われる薄膜形成装置において、前記送りロール4および巻き取りロール5が、前記可撓性基板に与える張力を制御しているようにする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
回転駆動する送りロールから巻き取りロールに渡って連続して搬送される可撓性基板が、送り側ターンロールを介し鉛直上方に方向転換され、送り側ターンロールの上方に設置されたセンターロールを介して鉛直下方に向けて方向転換され、次いで巻き取り側ターンロールを介し巻き取りロール側に方向転換されるように搬送され、可撓性基板がセンターロールと送り側ターンロールおよび巻き取り側ターンロール間で鉛直面内に保持されている時に、可撓性基板を内部に収める成膜室内で所定の薄膜形成が行われる薄膜形成装置において、前記送りロールおよび巻き取りロールが、前記可撓性基板に与える張力を制御していることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (19件):
4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BA03
, 4K029BA04
, 4K029BA49
, 4K029BB02
, 4K029BD00
, 4K029CA05
, 4K029DA08
, 4K029EA00
, 4K029KA03
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030GA14
, 4K030JA20
, 4K030KA24
, 4K030KA26
, 4K030KA41
, 4K030LA16
引用特許:
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