特許
J-GLOBAL ID：200903018111761703

露光装置およびデバイス製造方法

発明者：
土屋 剛

土屋 剛 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-171223
公開番号（公開出願番号）：特開2009-010231
出願日： 2007年06月28日
公開日（公表日）： 2009年01月15日
要約：
【課題】パルス光の波長を周期的に変更しながら複数のパルス光によって基板を積算露光する露光装置において、波長の変更周期を適正化することによって焦点深度を向上させる。【解決手段】露光装置100は、光源1から提供されるパルス光を用いて基板18を露光する。露光装置100は、光源1が発生するパルス光の波長を周期的に変更するための制御部22を備える。制御部22は、基板18の1つのショット領域を露光するために要求されるパルス光の数に基づいて波長の変更周期を決定する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
光源から提供されるパルス光を用いて基板を露光する露光装置であって、 前記光源が発生するパルス光の波長を周期的に変更するための制御部を備え、前記制御部は、基板の1つのショット領域を露光するために要求されるパルス光の数に基づいて前記波長の変更周期を決定する、 ことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (4件)：
H01L21/30 516A ,  H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515B
Fターム (19件)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CA07 ,  5F046CA10 ,  5F046CB05 ,  5F046CB07 ,  5F046CB23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DA01 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046DB12 ,  5F046DC02 ,  5F046DC12
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特登録02619473号公報
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-331396   出願人：ソニー株式会社
  • 投影露光方法および装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-036914   出願人：日本電気株式会社
審査官引用 (5件)
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