リソグラフィ装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-314739
公開番号（公開出願番号）：特開2001-135562
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】従来、複数のパターンをウェハ上に重ねて露光記録する場合、複数のマスクやレチクルを取替えながら位置決めして露光している。そのため、パターンの重ね合わせ精度によって歩留まりが低下し露光記録のスループットも低下している。【解決手段】複数枚に分けて描画したレチクルまたはマスクに替えて、各レチクルまたはマスクに描画したパターンと同等の明暗パターンを表示する反射型空間光変調素子を1個または複数個配置し、この反射型空間光変調素子の選択反射する表面にリソグラフィ装置の光源から光を照明レンズで照射すると共に、照射光の開口数を反射型空間光変調素子に対する投影レンズの開口数を一致させ、さらに、反射型空間光変調素子が表示する明暗パターンの時間的な変化を、シリコンウェハ上のパターンと投影レンズの共役比についてシリコンウェハの動きに同期させる。

請求項（抜粋）：

投影レンズについてウェハと共役な位置に、シリコンウェハ上に投影するパターンを発生させる装置として反射型空間光変調素子を設置したことを特徴とするリソグラフィ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G02B 26/08 , G03F 1/08 , G03F 7/20 521

FI (6件)：

G02B 26/08 E , G03F 1/08 Z , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 517 , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 515 F

Fターム (13件)：

2H041AA16 , 2H041AB14 , 2H041AZ05 , 2H095BA01 , 2H095BA07 , 2H095BC24 , 5F046BA05 , 5F046CA02 , 5F046CB18 , 5F046DA01 , 5F046DA11 , 5F046DD01 , 5F046DD06

引用特許：

審査官引用 (5件)

ステレオリソグラフ装置および使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-000111 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
露光装置およびそれを用いた微細加工体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-305367 出願人：株式会社日立製作所
パターニング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-211733 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド

全件表示

前のページに戻る