特許
J-GLOBAL ID：200903051171306425

微粒子数の低減されたフォトレジスト液製品の製造方法

発明者：
日置 毅

日置 毅 について

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徳原 晃太

徳原 晃太 について

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花元 幸夫

花元 幸夫 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-115091
公開番号（公開出願番号）：特開2002-311600
出願日： 2001年04月13日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：
【要約】【課題】 コストがかさまず、微粒子数の低減されたフォトレジスト液製品の製法の提供。【解決手段】 フッ素系樹脂製製及びポリオレフィン製のフィルターから選ばれる1種以上のフィルターにより、原料フォトレジスト液を濾過してフォトレジスト液製品を製造する方法であって、一回以上原料フォトレジスト液の濾過に使用された上記1種以上のフィルターを、N-メチルピロリドン及び/又は他の有機溶媒を用いて濾過時の方向とは逆向きに洗浄し、この逆洗浄されたフィルターにより前記の原料フォトレジスト液を濾過する。
請求項（抜粋）：
フッ素系樹脂製製及びポリオレフィン製のフィルターから選ばれる1種以上のフィルターにより、原料フォトレジスト液を濾過してフォトレジスト液製品を製造する方法であって、一回以上原料フォトレジスト液の濾過に使用された上記1種以上のフィルターを、N-メチルピロリドン及び/又は他の有機溶媒を用いて濾過時の方向とは逆向きに洗浄し、この逆洗浄されたフィルターにより前記の原料フォトレジスト液を濾過することを特徴とする微粒子数の低減されたフォトレジスト液製品の製造方法。
IPC (7件)：
G03F 7/38 501 ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 65/06 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/32 ,  B01D 71/36 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/38 501 ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 65/06 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/32 ,  B01D 71/36 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (14件)：
2H096AA25 ,  2H096BA20 ,  2H096LA30 ,  4D006GA07 ,  4D006KC03 ,  4D006KC16 ,  4D006KD29 ,  4D006KD30 ,  4D006MC22X ,  4D006MC28 ,  4D006MC30X ,  4D006PA01 ,  4D006PB20 ,  4D006PC01
引用特許：
出願人引用 (7件)
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