特許
J-GLOBAL ID:200903051572641731
窒化ケイ素質セラミックス用焼成容器
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-215958
公開番号(公開出願番号):特開2005-069668
出願日: 2004年07月23日
公開日(公表日): 2005年03月17日
要約:
【課題】窒化ケイ素質成形体、特に金属ケイ素粒子および/または窒化ケイ素粒子を含むハニカム成形体を、変形や欠陥等なく形状精度よく、高品質で高効率に、窒化、焼成などの熱処理ができる窒化ケイ素質セラミックス用焼成容器の提供。【解決手段】ガス導入口1およびガス排出口9を有する密閉容器20であって、前記密閉容器20内が前記ガス導入口1と連通するガス導入室2と、前記ガス排出口9と連通し、被熱処理体7を収容する焼成室3とにガス導入室仕切板4で仕切られており、該ガス導入室仕切板4の外周部近傍に選択的に通気穴5が形成されていることを特徴とする窒化ケイ素質セラミックス用焼成容器。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ガス導入口およびガス排出口を有する密閉容器であって、前記密閉容器内が前記ガス導入口と連通するガス導入室と、前記ガス排出口と連通し、被熱処理体を収容する焼成室とにガス導入室仕切板で仕切られており、該ガス導入室仕切板の外周部近傍に選択的に通気穴が形成されていることを特徴とする窒化ケイ素質セラミックス用焼成容器。
IPC (5件):
F27D5/00
, B01D39/00
, B01D39/20
, C04B35/64
, F27D7/02
FI (6件):
F27D5/00
, B01D39/00 B
, B01D39/20 D
, F27D7/02 Z
, C04B35/64 H
, C04B35/58 102T
Fターム (27件):
4D019BA05
, 4D019BB06
, 4D019CA01
, 4D019CB07
, 4G001BA62
, 4G001BB32
, 4G001BC45
, 4G001BC48
, 4G001BC52
, 4G001BC54
, 4G001BC57
, 4G001BD04
, 4G001BE31
, 4K055AA06
, 4K055HA02
, 4K055HA08
, 4K055HA13
, 4K055HA25
, 4K063AA06
, 4K063AA15
, 4K063BA04
, 4K063CA03
, 4K063CA06
, 4K063DA13
, 4K063DA15
, 4K063DA26
, 4K063GA33
引用特許:
出願人引用 (6件)
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特公昭58-38387号公報(第1〜3頁)
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特公昭61-3304号公報(第1〜2頁)
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セラミックハニカム焼成体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-234313
出願人:松下電器産業株式会社
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審査官引用 (6件)
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脱脂焼結方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-327333
出願人:島津メクテム株式会社
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特公平7-009358
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リフロー装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-227171
出願人:株式会社タムラ製作所, 株式会社タムラエフエーシステム, 株式会社鵬製作所
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