特許
J-GLOBAL ID：200903051591924906

感光性材料、パターン形成方法、および電子部品の製造方法

発明者：
沖野 剛史

沖野 剛史 について

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浅川 鋼児

浅川 鋼児 について

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信田 直美

信田 直美 について

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後河内 透

後河内 透 について

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中瀬 真

中瀬 真 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-236047
公開番号（公開出願番号）：特開平10-142799
出願日： 1997年09月01日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】 環境安定性に優れ、短波長光に対して高い透明性を有するとともに、アルカリ現像により基板との密着性が高く、解像性の良好な微細パターンを形成し得る感光性材料を提供する。【解決手段】 脂環式骨格および縮合多環式骨格の少なくとも一方を有するアルカリ可溶性樹脂部分と、ジアゾ化合物部分とを含む感光性材料である。ジアゾ化合物部分は、アルカリ可溶性樹脂の側鎖に含まれていてもよく、樹脂部分とは別の成分として含有されていてもよい。
請求項（抜粋）：
脂環式骨格および縮合多環式骨格の少なくとも一方を有するアルカリ可溶性樹脂部分と、ジアゾ化合物部分とを含む感光性材料。
IPC (6件)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/095 501 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/095 501 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 573
引用特許：
審査官引用 (17件)
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