半導体上の多層薄膜積層を解析する装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山崎行造 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-502402
公開番号（公開出願番号）：特表2003-524748
出願日： 1998年06月05日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：

【要約】多重薄膜積層を有する試料を評価する光学的測定システムが開示される。この光学的測定システムは、参照偏光解析計と、少なくとも一つの非接触光学的測定デバイスとを含む。その参照偏光解析計は、他の光学的測定デバイスを較正するために用いられる。ひとたび較正を終えると、システムは多重薄膜積層を解析するために用いることができる。特に、参照偏光解析計は、積層の全光学的厚さを決定するために用いることができる測定値を与える。この情報を他の光学的測定デバイスによりなされた測定値と組み合わせて用いることにより、個々の層に関するより正確な情報が得られる。添付の請求の範囲の目的の範疇にある任意且つ全ての変更例を包含することを理解されたい。例えば、第2の補償器を追加でき、この場合、図4に示すように第1の補償器は試料とアナライザとの間に配置されており、且つ第2の補償器は試料と光源との間に配置されている。これらの補償器は静止または回転とすることができる。更に、偏光状態の間に静止または可変遅延を与えるために、補償器98は非回転光電素子または光弾性素子、例えば圧電セル遅延器に置き換えることができ、この圧電セル遅延器は、セルに対する可変または静電圧を適用することにより正弦または静止位相遅延を導くように当該技術分野で一般的に用いられている。

請求項（抜粋）：

多重層薄膜積層を上部に有する試料の解析の方法であって、安定狭帯域波長源を含み、第1の出力信号を発生するオフ軸偏光解析計を用いて試料を測定する段階と、広帯域波長源からの反射光に対する試料の応答を測定して、異なる波長に対応する複数の第2の出力信号を発生する段階と、アルゴリズムを用いて第1と第2の出力信号に基づいて試料上の個々の層の特性を決定し、そのアルゴリズムにおいては、第1の出力信号が個々の層の解析の精度を向上させる目的で積層の全光学的厚さの正確な測定を与えるように用いられる段階とを含む方法。

IPC (2件)：

G01N 21/21 , G01B 11/06

FI (2件)：

G01N 21/21 Z , G01B 11/06 Z

Fターム (52件)：

2F065AA30 , 2F065BB17 , 2F065FF50 , 2F065FF61 , 2F065GG02 , 2F065GG04 , 2F065GG05 , 2F065GG06 , 2F065GG23 , 2F065GG24 , 2F065HH09 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ17 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065LL22 , 2F065LL30 , 2F065LL32 , 2F065LL36 , 2F065LL42 , 2F065LL47 , 2F065LL51 , 2F065LL67 , 2F065QQ25 , 2G059AA05 , 2G059BB10 , 2G059BB16 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059EE09 , 2G059EE11 , 2G059EE12 , 2G059FF08 , 2G059GG01 , 2G059GG04 , 2G059GG10 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH03 , 2G059HH06 , 2G059JJ02 , 2G059JJ05 , 2G059JJ11 , 2G059JJ12 , 2G059JJ13 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059JJ22 , 2G059KK02 , 2G059KK04 , 2G059MM01

引用特許：

出願人引用 (3件)

光学的隙間測定方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-024243 出願人：ジゴーコーポレーション
測光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-314023 出願人：株式会社島津製作所
特開平3-205536

審査官引用 (4件)

光学的隙間測定方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-024243 出願人：ジゴーコーポレーション
測光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-314023 出願人：株式会社島津製作所
特開平3-205536

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