光透過性カーボン系薄膜とその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-108356
公開番号（公開出願番号）：特開2004-315854
出願日： 2003年04月11日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】ソーラーパネルのコーティング材などとして可視光領域から赤外線領域にわたる広い範囲の光を利用できる、効率の良い光学特性を有する光透過性カーボン系薄膜とその製造方法を提供する。【解決手段】シリコン基板上にカーボン薄膜を成膜すると同時にカーボン薄膜に窒素を添加し、その後熱処理を行うことで窒素の含有量を減少させて屈折率および吸収係数を調整し、窒素あるいは窒素と水素が添加された屈折率が1.98の光透過性カーボン系薄膜を得る。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

シリコン基板上にカーボン薄膜を成膜すると同時にカーボン薄膜に窒素を添加して窒素を含有するカーボン系薄膜を形成し、その後熱処理を行うことで窒素の含有量を減少させてカーボン系薄膜の屈折率および吸収係数を調整することを特徴とする光透過性カーボン系薄膜の製造方法。

IPC (6件)：

C23C14/06 , C01B21/082 , C01B33/02 , C23C14/34 , G02B1/10 , G02B5/22

FI (6件)：

C23C14/06 F , C01B21/082 K , C01B33/02 Z , C23C14/34 M , G02B5/22 , G02B1/10 Z

Fターム (18件)：

2H048CA01 , 2H048CA05 , 2H048CA12 , 2H048CA14 , 2K009CC01 , 2K009DD04 , 2K009DD09 , 4G072AA01 , 4G072AA50 , 4G072UU02 , 4K029AA06 , 4K029BA34 , 4K029BC08 , 4K029CA05 , 4K029DC02 , 4K029DC35 , 4K029DC39 , 4K029GA01

引用特許：

審査官引用 (6件)

基板上への炭素皮膜の生成方法及びそれによって得られた炭素皮膜を有する基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-194696 出願人：イー.エム.エス.イオネン-ミクロファブリカショーンズズィステーメゲーエムベーハー, ユニバーズィテートゲゼームトクシューレカッセル, ウスタフポチタコビッチシステモフ,スロベンスカアカデミアフレト
特開昭62-180056
高SP3内容を有する第1炭素被膜と低SP3内容を有する第2炭素被膜とを含む磁気ディスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-192251 出願人：コマッグ・インコーポレイテッド

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