特許
J-GLOBAL ID:200903052555215032
石英系ガラスの製造方法および光デバイスの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
高橋 省吾
, 稲葉 忠彦
, 村上 加奈子
, 中鶴 一隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-007910
公開番号(公開出願番号):特開2008-110916
出願日: 2008年01月17日
公開日(公表日): 2008年05月15日
要約:
【課題】極めて扱いやすく、高濃度で均一な添加元素の添加が可能で、しかも段差被覆性が良好で高速合成時においても透明な膜の製造が可能な石英系ガラス用原料および石英系ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】珪素を含む有機化合物、または、硼素、リン、ゲルマニウムのうちから選ばれた少なくとも一種類の元素を含む有機化合物を、テトラヒドロフランを含む有機溶剤に溶解させた石英系ガラス用原料を、液体原料タンク2〜5から気化装置8で気化させて原料ガスとし、該原料ガスに反応ガスを混合してCVD反応炉11で化学反応により基体14上に石英系ガラスを堆積させる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第一及び第二石英系ガラス用原料を気化させて原料ガスとする気化工程と、
前記原料ガスに反応ガスを混合して化学反応により石英系ガラスを基体上に堆積させる気相反応堆積工程と
を含み、
前記第一石英系ガラス用原料として、珪素を含む有機化合物を用い、
前記第二石英系ガラス用原料として、珪素と硼素とが酸素を介して結合したトリストリメチルシリルボレート複合有機化合物、珪素とリンとが酸素を介して結合したジメチルトリメチルシリルホスファイト複合有機化合物、および珪素とゲルマニウムとが酸素を介して結合したテトラメトキシゲルマニウム複合有機化合物を用い、
前記気化工程と前記気相反応堆積工程のうち、少なくとも一方の工程において、テトラヒドロフランを含む有機溶剤の蒸気を混合することを特徴とする石英系ガラスの製造方法。
IPC (4件):
C03B 20/00
, C03B 8/04
, C03B 37/018
, G02B 6/13
FI (7件):
C03B20/00 F
, C03B8/04 Z
, C03B8/04 D
, C03B8/04 E
, C03B20/00 Z
, C03B37/018 A
, G02B6/12 M
Fターム (42件):
2H147BC02
, 2H147BC05
, 2H147BE04
, 2H147BE11
, 2H147EA13C
, 2H147EA14A
, 2H147EA14B
, 2H147EA14C
, 2H147EA33A
, 2H147EA34A
, 2H147EA34B
, 2H147EA35A
, 2H147EA35B
, 2H147EA36A
, 2H147EA36B
, 2H147EA38A
, 2H147EA38B
, 2H147EA39A
, 2H147EA39B
, 2H147FA03
, 2H147FA05
, 2H147FA21
, 2H147FA24
, 2H147FA25
, 2H147FA26
, 2H147FB01
, 2H147FC05
, 2H147FD16
, 2H147FF01
, 2H147FF04
, 2H147FF06
, 2H147FF07
, 2H147FF08
, 2H147GA15
, 2H147GA19
, 4G014AH12
, 4G014AH15
, 4G021EA01
, 4G021EB06
, 4G021EB13
, 4G021EB16
, 4G021EB19
引用特許:
出願人引用 (13件)
-
成膜方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-083728
出願人:キヤノン販売株式会社, 株式会社半導体プロセス研究所
-
リン珪酸ガラス膜の形成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-112721
出願人:旭電化工業株式会社
-
気相成長によるリン珪酸ガラス膜の形成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-274008
出願人:旭電化工業株式会社
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審査官引用 (13件)
-
成膜方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-083728
出願人:キヤノン販売株式会社, 株式会社半導体プロセス研究所
-
リン珪酸ガラス膜の形成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-112721
出願人:旭電化工業株式会社
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気相成長によるリン珪酸ガラス膜の形成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-274008
出願人:旭電化工業株式会社
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