特許
J-GLOBAL ID：200903052769233330
長周期光ファイバ格子製造装置及びこれを用いた二つのバンドの長周期光ファイバ格子製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-566710
公開番号（公開出願番号）：特表2002-523800
出願日： 1999年08月11日
公開日（公表日）： 2002年07月30日
要約：
【要約】長周期光ファイバ格子製造装置及びこれを用いた二つのバンド長周期光ファイバ格子製造装置を提供する。該装置が、紫外線レーザー光を生成する光源(100)、光源(100)で生成されたレーザー光を所定角度に反射させてその経路を変更するミラー(102)、ミラー(102)により経路が変更されたレーザー光をフォーカシングするレンズ(104)、レンズ(104)を通過したレーザー光を分散させる分散部(106)、分散部(106)と光ファイバ(112)との間に位置し、分散されたレーザー光を周期的に光ファイバ(112)へ通過させる通過領域を備える振幅マスク(108)を含む。これにより、光ファイバ(112)に走査されるレーザービームのサイズを調節して長周期格子ファイバの帯域幅が調節できる。又、振幅マスクの製造が容易で低製造コストであり、限界損傷パワーが大きい。
請求項（抜粋）：
紫外線レーザー光を光ファイバに周期的に照射して前記光ファイバのコアの屈折率を前記周期により変化させる長周期光ファイバ格子製造装置において、装置が、 前記紫外線レーザー光を生成する光源; 前記光源で生成された紫外線レーザー光を所定角度に反射させてその経路を変更するミラー; 前記ミラーにより経路が変更されたレーザー光をフォーカシングするレンズ; 前記レンズを通過したレーザー光を分散させる分散部;及び 前記分散部と光ファイバとの間に位置し、前記分散されたレーザー光を周期的に前記光ファイバで通過させる通過領域を備える振幅マスクを含む装置。
IPC (3件)：
G02B 5/18
, G02B 6/10
, G02B 6/16
G02B 5/18
, G02B 6/10 C
, G02B 6/16
2H049AA02
, 2H049AA33
, 2H049AA44
, 2H049AA46
, 2H049AA59
, 2H049AA62
, 2H050AC82
, 2H050AC84
