特許
J-GLOBAL ID：200903052810427456

酸発生剤及びレジスト組成物

発明者：
山口 訓史

山口 訓史 について

, 
秋田 誠

秋田 誠 について

, 
吉田 勲

吉田 勲 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-211132
公開番号（公開出願番号）：特開2005-097254
出願日： 2004年07月20日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】化学増幅型レジストに使用される新規な塩、及びこれと樹脂成分とを含有し、エキシマレーザーリソグラフィや電子線リソグラフィに適した、改善されたラインエッジラフネスを与え、かつパターンプロファイルの良好な化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(I)で示される塩。Q1〜Q5は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜16個のアルキル基、下式(I’)で示される基、等を表す。 -COOR (I’)(Rは、炭素数6〜12のアリール基、式(II’)又は式(II’’)を表す。(R1とR2は、互いに独立に、炭素数1〜12のアルキル、炭素数6〜12のアリール、等を表す。R1とR2とが結合して、単環又は多環を形成してもよい。R3とR4は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル、等を表す。R3とR4とが結合して、単環又は多環を形成してもよい。A+は、対イオンを表す。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下式(I)で示される塩。
IPC (7件)：
C07C309/58 ,  C07C381/12 ,  C08F112/14 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (8件)：
C07C309/58 ,  C07C381/12 ,  C08F112/14 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (31件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL26P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53Q ,  4J100DA01 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-052006   出願人：富士写真フイルム株式会社
審査官引用 (4件)
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